- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtements; galvanoplastie; jonction de pièces par électrolyse; appareillages à cet effet
- C25D 3/48 - Dépôt électrochimique; Bains utilisés à partir de solutions d'or
Détention brevets de la classe C25D 3/48
Brevets de cette classe: 234
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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LG Innotek Co., Ltd. | 6758 |
9 |
Hutchinson Technology Incorporated | 310 |
6 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
6 |
Composecure, LLC | 129 |
5 |
Stamford Devices Limited | 155 |
5 |
Texas Instruments Incorporated | 19376 |
4 |
Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | 643 |
4 |
MacDermid Enthone Inc. | 237 |
4 |
Xtalic Corporation | 63 |
4 |
National Technology & Engineering Solutions of Sandia, LLC | 1851 |
4 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
3 |
Huawei Technologies Co., Ltd. | 100781 |
3 |
Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
3 |
Coventya S.p.A. | 14 |
3 |
G. Aliprandini | 4 |
3 |
JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1576 |
3 |
The Swatch Group Research and Development Ltd | 778 |
3 |
Heraeus Materials Singapore, PTE., Ltd. | 39 |
3 |
Japan Pure Chemical Co.,Ltd. | 18 |
3 |
Matsuda Sangyo Co., Ltd. | 23 |
3 |
Autres propriétaires | 153 |